이온 빔 밀링 장비(Hakuto社)
이온 빔 밀링 장비(Hakuto社)
이미지 클릭시 제품 상세정보로 이동합니다.
■물리적인 방법을 이용한 에칭
→ Au, Pt, 자성재료, 금속다층막도 에칭용이
■비활성 가스 사용 →안정성.
배기 등의 유틸리티 제외 장치는 필요 無
■다층막 에칭 가능
■미세가공 등, 에칭 형상의 제어가 가능
→ Au, Pt, 자성재료, 금속다층막도 에칭용이
■비활성 가스 사용 →안정성.
배기 등의 유틸리티 제외 장치는 필요 無
■다층막 에칭 가능
■미세가공 등, 에칭 형상의 제어가 가능
MORE +
■ 연구 개발에서 양산 용도까지 대응 가능한 넓은 범위의 제품 구성
■ 카우프만 형 이온 소스 탑재 → 우수한 재현성, 높은 밀링 율
■ 이온 빔 입사각도 변경 가능 → 밀링 형상 최적화
■ 스테이지는 직접 냉각 방식으로 선택 가능→ 기판의 과승온 방지
■ 스테이지의 자전 공전 기능을 보유→ 우수한 면내 균일성
■ 프로세스의 자동화 대응→ 우수한 조작성
