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이온 빔 밀링 장비(Hakuto社)

20IBE-J

·         20cm카우프만 형 이온 소스 탑재

·         기판사이즈・매수: ∅4인치X12매, ∅5인치 X10매, ∅6인치X8매 등

·         자전 공전 운동을 하는planetary스테이지를 채용해, 양호한 균일성을 실현  

이온소스 타입 카우프만형
이온빔 전압 300~800V(상용), 300~1000V(최대)
이온빔 전류 400mA(상용), 800mA(최대)
진공배기계 주배기용 펌프 크라이오펌프(표준), 터보분자펌프(옵션)
일차 펌프 회전식 펌프(표준), 드라이펌프(옵션)
GATE 밸브 자동조작 또는 수동조작(변환가능)
기판홀더 스테이지 샘플사이즈 ~8인치 웨이퍼까지 탑재가능
(예)φ4"×12매,φ6"×8매,φ8"×4매
이온빔 입사각 0도~±90도
냉각방식 직접냉각
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