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이온 빔 밀링 장비(Hakuto社)

20IBE-C

·         20cm카우프만 형 이온 소스 탑재

·         기판사이즈・매수: ∅3인X8매, ∅4인치 X6매, ∅6인치 X4매 등

·         자전 공전 운동을 하는 planetary 스테이지를 채용해, 양호한 균일성을 실현  

이온소스 타입 카우프만형
이온빔 전압 300~800V(상용), 300~1000V(최대)
이온빔 전류 400mA(상용), 800mA(최대)
진공배기계 주배기 펌프 터보분자 펌프(표준),크라이오 펌프(옵션)
일차 펌프 회전식 펌프(표준), 드라이 펌프(옵션)
GATE 밸브 자동조작 또는 수동 조작(변환가능)
기판홀더 스테이지 샘플사이즈
~6인치 웨이퍼까지 탑재가능
()φ3"×8매, φ4"×6
이온빔 입사각 0~±90
냉각방식 간접냉각(표준), 직접냉각(옵션)
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