이온 빔 밀링 장비(Hakuto社)
20IBE-C
· 20cm카우프만 형 이온 소스 탑재
· 기판사이즈・매수: ∅3인X8매, ∅4인치 X6매, ∅6인치 X4매 등
· 자전 공전 운동을 하는 planetary 스테이지를 채용해, 양호한 균일성을 실현
이온소스 | 타입 | 카우프만형 |
이온빔 전압 | 300~800V(상용), 300~1000V(최대) | |
이온빔 전류 | 400mA(상용), 800mA(최대) | |
진공배기계 | 주배기 펌프 | 터보분자 펌프(표준),크라이오 펌프(옵션) |
일차 펌프 | 회전식 펌프(표준), 드라이 펌프(옵션) | |
GATE 밸브 | 자동조작 또는 수동 조작(변환가능) | |
기판홀더 스테이지 | 샘플사이즈 |
~6인치 웨이퍼까지 탑재가능
(예)φ3"×8매, φ4"×6매 |
이온빔 입사각 | 0도~±90도 | |
냉각방식 | 간접냉각(표준), 직접냉각(옵션) |